大学教育の質の保証・向上ならびに 電子化及びオープンアクセスの推進の観点から 学校教育法第百十三条に基づき、 教育研究活動の状況を公表しています。
第百十三条 大学は、教育研究の成果の普及及び活用の促進に資するため、その教育研究活動の状況を公表するものとする。
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A.高音ガスタービン 到達温度 1600℃ 耐熱合金製の翼を熱から保護するため、遮熱コーティングが施されている。 遮熱コーティングは耐久性と熱伝導性をバランスよく有している。
A.高温加熱技術の１つに高周波誘導加熱がある。 これは、金属を直接触れずに発熱させる方法であり、原理としえは、交流電源に接続されたコイルに金属を入れることで発熱させることである。交流電流により、被加熱物の表面付近に電流が流れ、それによるジュール熱で被加熱物が発熱する。特徴としては高速・高温加熱が可能であり、ろう付、溶解などに応用され、電子レンジにも取り入れられている。最大到達温度はタングステンフェラメントで3300度。
A.金属を非接触で自己発熱させる方式。交流電源に接続されたコイルの中に金属棒を挿入すると、コイルと金属棒は離れているにもかかわらず金属棒自身が発熱していきます(非接触で自己発熱)。これが誘導加熱です。 交流電流によって被加熱物の表面付近に高密度のうず電流が発生し、そのジュール熱で被加熱物の表面が発熱します。 この方式は被加熱物に電流を流す直接加熱方式であり、被加熱物が導電体（金属、カーボン等）であることが条件になります。 絶縁体を誘導加熱する場合は、導電性の容器に被加熱物を入れて容器を誘導加熱して熱伝達させる間接加熱方式をとります。 参考文献http://www.spc.co.jp/products/ih/case.html
A.クリーン熱処理や、急速加熱冷却がある。 そのための装置は多数ある。 近赤外線加熱装置だと溶解の様子を観察することが出来るらしい。 最高で1500℃までにものぼる。
A.2種類(低・高)の周波数電力を取り入れた多周波加熱技術。 応用例として異形部品の輪郭焼入れが挙げられる。
A.高周波誘導加熱で交流電流によって被加熱物の表面付近に高密度のうず電流を発生させ、そのジュール熱で被加熱物の表面が発熱する。
A.赤外線輻射光を反射、集光することで急速に加熱する。 到達温度:約3200K 鉄の融解、高温材料の焼結に使用
A.集光加熱炉 赤外線発生装置と熱容量の小さな反射鏡を用いて高温加熱を行うことのできる炉 仕組みは赤外線を反射鏡を用いて効率よく反射させ物体をピンポインに加熱すると言うものであり、炉全体はとても小さく、さらに省エネでありながら最高到達温度は1700 ℃に及ぶものも存在する。また赤外線による加熱をする事によって赤外線を観測する事で温度を簡単にモニター、制御することができる。更に高温への到達も、冷却も高速で行える。 工業的応答としてはICやその他小型部品の加熱に用いられる。
A.原子炉 核分裂反応により発生する熱の温度2400℃ 主に原子力発電所や巨大空母で使われている技術だが、熱のほとんどは冷却によって失われているらしい。
A.赤外線加熱技術 〈原理〉 物質に電磁波を投入することにより、電磁波のエネルギーが分子の運動(熱運動)を増幅させ、物質の温度が上昇する。 〈最大到達温度〉 1800℃ 〈工業的応用〉 ペットボトルの成形、ガラス製品の乾燥や焼き付け、など
A.高音加熱技術には誘導加熱や遠赤外線加熱などがあり、例えば高温用粉体混合機は400℃で粉体の混合、乾燥などができる。これを使って、医薬品や食品を均一の大きさにして混合できる。
A.電気窯やガス窯、マイクロ波を併用した窯などが使われている。作ったものは実験の器具や機械装置など様々な用途に使われる
A.第一高周波工業株式会社で特許を取得している蒸気加熱装置について調べた。 この蒸気加熱装置の原理は、誘導加熱による飽和蒸気から発生する過熱水蒸気で過熱していて、こよ誘導加熱は私達の身近なものでIHに使われていることが調べてわかった。 また最高到達温度は1000℃である。 この装置の主な適用例としてあげられていたのは殺菌や乾燥、炭素減容や表面処理などに用いられる。
A.高真空加熱装置 高真空雰囲気を作り出すことにより、さまざまな新材料の焼成、不純物除去、溶解が可能。 加熱温度:常用2200℃
A.炭素抵抗加熱。 原理:グラファイトの電気抵抗を利用してヒーターとして利用する。 加熱方式:グラファイト抵抗式。 最大到達温度3000℃。 応用の具体例:超高温炉のヒーターとして利用。ファインセラミクスの製造・開発。
A.高周波誘導加熱、黒鉛ヒーター、金属ヒーターを用いた抵抗加熱の組み合わせで熱処理、熱加工を行う。 最高で3200℃まで対応。 黒鉛化炉、CVD炉などに用いられる。
A.高周波誘導加熱とは交流に接続されたコイルに金属棒を挿入すると接触していないにもかかわらず温度が上昇する現象である。 これは金属とガラスの接合、ハンダ付けなどに用いられる。
A.赤外線加熱プロセス 加熱対象物に照射された赤外線光エネルギーは、反射・吸収・透過に分かれ、吸収された光エネルギーは原子・分子を振動させて摩擦熱が発生する。一瞬で数百℃まで加熱可能。 最高2600℃ ガラスや金属の成形
A.高周波誘導加熱という方法がありました。原理は金属棒のまわりに巻いた加熱コイルに交流を流すと非加熱物の表面が赤く加熱される。これは高周波電流によって生じる高周波磁束が非加熱物質を貫通し非常に高い密度で電流が流れることに由来します。 これは日常では電子レンジで応用されており工業的には金属のろうつき、溶解、などに応用されています。最高温度は見つけられませんでした。
A.金属に使われる物ではないが自分たちと馴染み深い食品などに使われる技術を調べた。超高温瞬間殺菌法、牛乳などと乳製品などにおいて利用される殺菌法で120～150℃で数秒間加熱して殺菌する方法。牛乳は栄養価も豊富な反面、雑菌も繁殖しやすいという特徴があるまて、殺菌する必要がある。この方法で殺菌すると細菌などはほぼ死滅するため賞味期限の長い業務用の牛乳などを作る際に使われる。
A.空洞加熱法は、放物線型の反射鏡にハロゲンランプヒーターなどを置き、その熱を1点に集まる所に空洞の窓を置き、空洞内を加熱するものである。 工業で何に使われてるかまでは分からなかったが、熱量は少なく広範囲の加熱は難しいため、ガラス細工などへの応用が考えられる
A.高周波誘導加熱。金属を非接触で自己発熱させる方式。タングステンフェラメントで3300℃温度が到達する。ブレージング、はんだ付け、モールディング、接着のキュリングに使われている。
A.高周波誘導加熱について調べました。金属に非接触で自己発熱させる方法で、交流電源に接続されたコイルの中に金属を入れると金属は人が触れることなく発熱する。非加熱物が導電体であることか条件である。加熱効率が高い、外部からの接触がいらないので作業環境がよく、取り扱いが清潔である、ピンポイントで加熱できるなどの特徴がある。物質にもよるが100～1000℃くらいに加熱することができる。はんだ付け、焼き入れ、金属とプラスチックの溶接、など幅広く利用されている。
A.赤外線加熱で1800度まで到達する グラフェンやSiC活性化熱処理に使用できる
A.電気炉 チャンバー型 最高温度:750～1500 原理:電気エネルギーを熱エネルギーに変換して金属材料を加熱、融解させる。 電気炉の中で工業的に重要ななは、アーク炉といわれるものである。これは鉄鋼の表面硬化の熱処理や、ゾーンメルティングなどに応用される。
A.原理:加熱コイルに高周波電流（交流）を流すと、交番磁束が被加熱物（導体）を貫通し、高密度の電流（うず電流）が流れ、金属には電気抵抗があるため、電流が流れると 電力＝電流x電流x抵抗 分のジュール熱が発生します。そのジュール熱で被加熱物は急速に加熱されます。 方式:高周波誘導加熱方式 最大到達温度:2300℃（高周波誘導加熱式電気炉 FTV-7000シリーズより） 工業的応用:電子レンジ
A.高周波誘導加熱電源を使用し、カーボン坩堝で不活性雰囲気中3000℃以上の加熱実験が可能。 高周波誘導加熱により、3000℃/hの昇温レートを実現し再現性・安定性の良いパワー制御を採用している。 また2色放射温度計により正確な温度測定が可能。 新素材の黒鉛化処理 高融点材料の溶解実験 高融点材料の再結晶化実験 高融点材料の合金作成 等
A.セラミックス用の加熱炉は2200℃まで高温を得ることができる。高温に耐える断熱材を使用している(グラファイト)ため、伝熱喪失が少ない上に、均一高温加熱ができる。加熱コイルと真空容器、不活性ガスを用いて加熱を行なっている。
A.赤外線を集光させ、急速加熱を実現させる高周波誘導加熱がある。集光加熱炉では1700度ほどまで加熱することが可能で、鉄の溶解などに用いられる。
A.高温加熱炉(集光加熱炉) ・サンプルだけ加熱することが出来る ・到達最高温度1700℃ ・試料サイズ最大φ１５×７０Ｌを加熱 ・熱効率を極めた試料ホルダーを標準装備 ・赤外線集光で秒速高温均一加熱・冷却を実現 工業的応用 鉄の溶解 高温材料等の焼結 ヒーターにタングステンフィラメントを使用。 発熱温度は約3200K ワット密度もニクロムヒーターに比べ、10～20倍 原理 発光した赤外線輻射光により、効率良く反射集光。 特徴 高い加熱能力を一段と高める熱容量の少ない発熱ランプと冷却された高反射鏡だけの炉の熱容量は極小で、急速加熱冷却を可能。真空気密構造（特許申請中）で石英管等のチャンバーを内蔵する必要がない為、直接輻射加熱ができクリーン急速加熱冷却が可能。 http://www.caty-yonekura.co.jp/kouonkaneturo.html 株式会社米倉製作所
A.高周波誘導加熱 交流電源に接続されたコイルの中に金属棒を挿入すると、コイルと金属棒は離れているにもかかわらず金属棒自身が発熱していく。これが誘導加熱である。 最大到達温度 約3000℃ 応用例 ろうづけ はんだ付け カーバイドの先端加工 カテーテルの先端加工 など
A.高温電気炉 最高到達温度1900℃ 電流によって発生する抵抗熱・アーク熱・誘導熱を利用して高温を得る炉のことで、安定した高温が長時間得られ、温度調節が容易である。金属の溶解などに用いられる。
A.誘導過熱はコイルに交流電流をながして磁束をだし、それが被過熱物に鎖交するとそのジュール熱で熱が通るものである。これは金属を非加熱で自発的に熱を出すものであり、はんだ付けに応用される。
A.原理:誘導加熱など 方式:電気誘導加熱、高周波誘導加熱など。 最大到達温度:700℃ 応用例:自動車産業、航空産業、ナノテクノロジーなど。
A.IHは、加熱制御性、対環境性能 が圧倒的に優れており、普及が進んできている。最大到達温度は300度。 料理に使う。
A.高周波誘導加熱 原理: 交流電源に接続されたコイルの中に金属棒を挿入すると、コイルと金属棒が非接触でも金属棒自身が発熱する。最大到達温度は2,300度ほど。コーティングや塗装に応用される。
A.高温加熱顕微鏡によってDIN法を用いる。 DIN法は形状の変化を温度変化とともに追うことができ、CCD カメラに記録することで計測者による誤差を最小限にすることができる。 到達温度は1300から1500度 石炭灰の溶融温度測定ができる。
A.-高温加熱装置- HTF6(以下「装置」と言う.)は，TRIA によっ て作られる約 6 分間の微小重力環境を利用し，シリコン液 柱内の周期振動流領域におけるマランゴニ対流現象を観察 するために開発を行った.具体的には、シリコン試料(融 点1412°C)を加熱・溶融し、シリコン液柱の温度ならびに 上・下界面間の温度差を一定の温度範囲内に保持・制御することにより、周期振動マランゴニ対流の観察を行なっている。 応用例:エレクトロヒートに利用されている。
A.応用例 高温加熱顕微鏡法
A.高温加熱ロッキングミキサの原理と方式は、優れた温度制御性、高機能な造粒などがある。最大到達温度は400℃である。工業的応用は、金属を使用した電子材料を使用した電池材料などをつくっている。
A.アーク炉は電極間のアーク放電による熱を利用して加熱する炉である。炭化カルシウムはこれにより2500度で作られる。
A.電磁誘導加熱 原理 コイルの中に金属棒を挿入すると、金属棒自身が発熱するように非接触で自己発熱するのが誘導加熱である。交流電流によって被加熱物の表面付近に高密度のうず電流が発生し、そのジュール熱で被加熱物の表面が発熱する。ただし、被加熱物が導電体でなければならない。最大到達温度は約250℃で、IHクッキングヒーターなどに用いられている。
A.高音真空加熱装置:高真空の高温雰囲気，または高純度の若干量の希ガスを含む高温雰囲気で結晶成長，化学反応，成膜等の化学的・物理的変化により試料を処理する。最大到達温度は2000℃。10??Pa 台の圧力下で処理できる高温真空加熱装置。セラミック材の焼形、焼結などに用いられる。
A.放電プラズマ焼結法 超高融点の材料であるHfCを高緻密に焼結することができる。 プラズマ切断は、レーザ切断より厚板を速く切断でき、ガス切断 より切断品質が良い特長がある。 電極材料は HfC(炭化ハフニウム)であり、従来のHfに対して高融点(HfC:3890°C、 Hf:2220°C)で、耐火性に優れており、セラミックスでありながら電気伝導性を有している。 このため難焼結材を焼結出来、造船、橋梁の建造に使用する鉄板の切断にも用いられる。
A.高周波誘導加熱:最高温度3300°C、原理は金属を非接触で自己発熱させるというもの。 ろう付・溶解・焼入れ・焼鈍・焼嵌に利用される。
A.3000℃超高温加熱の受託実験 方式:高周波誘導加熱 カーボン成型断熱材 最大到達温度:3000℃ 応用の具体例:高融点材料の合金作成
A.高周波誘導加熱 到達温度3000度 応用例 焼純
A.高周波誘導加熱 原理:交流電源に接続されたコイルの中に金属棒を挿入すると、コイルと金属棒は離れているにもかかわらず金属棒自身が発熱していく(非接触で自己発熱)。これが誘導加熱。 方式:交流電流によって被加熱物の表面付近に高密度のうず電流が発生し、そのジュール熱で被加熱物の表面が発熱する。この方式は被加熱物に電流を流す直接加熱方式であり、被加熱物が導電体（金属、カーボン等）であることが条件になる。絶縁体を誘導加熱する場合は、導電性の容器に被加熱物を入れて容器を誘導加熱して熱伝達させる間接加熱方式をとる。 最大到達温度:1200～3000℃(タンタラムフェラメント) 工業的応用:金属を非接触で自己発熱させる。
A.赤外線加熱技術 加熱対象物に照射された赤外線光エネルギーは、反射・吸収・透過に分かれ、吸収された光エネルギーは原子・分子を振動させて摩擦熱が発生することを利用した技術。 900～2200℃が可能。 ガラスや金属の成形などに利用される。
A.高温加熱顕微鏡 高温加熱顕微鏡は、材料の加熱時の変化を視覚的に観察する装置である。高温加熱顕微鏡は、試料の加熱時の変化を直接観察する装置で、任意の温度でカメラ撮影をすることも可能であり、高温加熱可能な投影機と考えると良い。加熱温度は最高1500℃まで、加熱速度は毎分20℃まで可能。 この装置の用途としては、陶磁器等の窯業分野での釉薬の融解温度測定があり、他の分野では、加熱過程での揮発性物質が及ぼす収縮への影響を検討した事例もある。古くから利用されているアナログ的装置だが、試料を直接的に観察できるため、これまで見落としていた物性の発見ができることもあり、他の熱分析で得られたデータの補完などにも利用が可能。
A.温風ダフトを使い、温風が直接当たるようにする技術。最大到達温度は加温するものによって違う。二酸化炭素の削減に繋がる。
A.高周波誘導加熱 原理 交流電源に接続されたコイル中に金属棒を入れると発熱する誘導加熱を利用している。 高密度の渦電流を作り出しそのジュール熱を利用して発熱させている。 温度は素材によってまちまち 工業的には調べてみるとはんだ付け、 一般家庭では電子レンジなどに使われている。
A.・焼成 セラミックスの形成体を加熱すると隣り合う粒子が徐々に密着し、粒子間のすき間が小さくなることでセラミックスを生成する方法。 セラミックスの一つであるアルミナの融点は2000度以上になる。その耐熱性から半導体の部品などに用いられる。
A.集光加熱炉 ヒーターはタングステンフィラメントを使用。発熱温度は約3200Kと高く、ワット密度もニクロムヒーターに比べ、10～20倍です。 発光した赤外線輻射光は効率良く反射集光し、高い加熱能力を一段と高めます。熱容量の少ない発熱ランプと冷却された高反射鏡だけの炉の熱容量は極小で、急速加熱冷却を可能にします。真空気密構造（特許申請中）で石英管等のチャンバーを内蔵する必要がない為、直接輻射加熱ができクリーン急速加熱冷却が可能です。 到達最高温度1700℃実現。 鉄の溶解も、高温材料等の焼結も余裕です。 引用→http://www.caty-yonekura.co.jp/kouonkaneturo.html
A.高温真空加熱装置KG-2000 岩崎電気株式会社 高真空の高温雰囲気，または高純度の若干量の希ガスを含む高温雰囲気において，結晶成長，化学反応，成膜等の化学的・物理的変化により試料を処理する。最大到達温度は2000度、10^4Pa台の圧力下で処理できる。セラミック材の焼成、焼結などに使われている。
A.赤外線高温加熱技術 加熱対象物に照射された赤外線光エネルギーは、反射・吸収・透過に分かれ、吸収された光エネルギーは原子・分子を振動させて摩擦熱が発生します。 1450℃ ガラスや金属形成に応用されている。
A.ミリ波発振照射加熱装置 物体に20～300GHzの電磁波を照射し分子運動(双極子の回転・振動)・イオン伝導から加熱する。セラミックスの加熱に用いることができる。
A.加熱方式は高周波誘導加熱。 最大到達温度は3000℃。 新素材の黒鉛化処理、高融点材料の溶解実験、高融点材料の再結晶化実験、高融点材料の合金作成等に応用されている。
A.工業炉用断熱材について、 一般的な耐火断熱レンガなどは高温になるにつれ熱伝導率が上がってしまい加熱効率が悪くなってしまう。これに対し、スピネル（MgAl2O4）を使って高温でも熱伝導率が上がらない断熱材があり、これを作る技術を開発している企業がある。
A.導線に交流電流を流すと、その周りに向き、強度の変化する磁力線が発生する。その近くに電気を通す物質（通常は金属）を置くとこの変化する磁力線の影響を受けて、金属の中に渦電流が流れる。金属には通常電気抵抗があるため、金属に電流が流れると、電力=電流2×抵抗 分のジュール熱が発生して、金属が自己発熱する。この現象を誘導加熱という。応用例としてはih
A.高温化熱技術の一つとして火力発電が考えられる。火力発電の簡単な原理は、燃料を燃やしてお湯を沸かし、その蒸気の力で蒸気タービンを回転させて電力を発生させている。1500℃くらいまで上がるらしい。
A.高温加熱技術には超高温加熱処理法がある。通常、120℃～150℃で1秒以上、5秒以内で殺菌する方法である。牛乳などの流体食品製品の殺菌処理に主に用いられている。
A.ある会社では高周波誘導加熱という方式で3500℃/hを安定して出せるようです。カーボン製の坩堝に不活性ガスを充満させ、加熱させている。安定性、応答性が優れている。
A.超高温加熱処理法 120℃～150℃で1秒以上5秒以下で殺菌する方法 乳飲料や清涼飲料水などの流体食品製品の殺菌処理に使われている。
A.高周波誘導加熱電源を使用し、カーボン坩堝で不活性雰囲気中だと3000℃超えの高温加熱が可能。高周波誘導加熱。高融点素材の合金作成など。
A.太陽光励起レーザー 太陽光の集光によって高温を得る場合、太陽の表面温度を上回ることはなく、6000度が理論的な限界となる。 しかし、地上にとどく様々な波長の太陽光を単一の波長の光であるレーザーに置き換えることで6000度を遥かに上回る超高温を得ることができる。
A.800℃以上の高温で使用される工業炉に投入されるエネルギーとして、ファイバーレス高強度高断熱性材料がある。これは対熱伝導率と高強度を両立し、従来の消費電力量を約38%削減したものである。
A.赤外加熱 赤外加熱は赤外線による熱伝達を主体にした加熱方式で、対象物に赤外放射を吸収させて熱エネルギーに変換し、その熱により加熱する。 最大到達温度は製品によって異なることが調べてわかった。 コンロや遠赤外線ヒーターなどに使用されている。
A.グラファイト抵抗加熱…グラファイトを抵抗として扱い、そこに電気を流すことでグラファイトからジュール熱を発生させ、目的の物質を加熱する方法。グラファイトの融点が3700~4300℃程度であるため、3000℃程度ならば加熱が可能。
A.応用例としては高温加熱により生成する有害化学物質を低減した調理方法の評価と検証。原理は高温の熱を与えることで、有害物資が低減される。目安温度は約120度以上
A.シリコーンの熱処理では食品安全規定を遵守するためにシリコーンに含有されるシリコーンオイルが一定の 割合に低減・脱油される。シリコーンオイルは熱処理中の持続的空気交換により炉室から排出される。 炉室内の温度均一性を最適化するため、供給される新鮮空気は予熱される。炉のサイズによっては熱交 換器による熱回収装置を装備すると大幅な省エネが実現するため、設備投資は短期間で償却される。
A.導線に交流電流を流すと、その周りに向き、強度の変化する磁力線が発生する。その近くに電気を通す物質（通常は金属）を置くとこの変化する磁力線の影響を受けて、金属の中に渦電流が流れる。金属には通常電気抵抗があるため、金属に電流が流れると、電力=電流2×抵抗 分のジュール熱が発生して、金属が自己発熱する。この現象を誘導加熱という。この熱を積極的に利用すれば、調理器具等に利用することができる。現在は300°cほどが最大到達温度であり、この温度で持続できる。
A.高周波誘導加熱は加熱コイルに高周波電流を流し、交番磁束を被加熱物に貫通させ、高密度の電流を流すことによって、被加熱物の電気抵抗を利用して被加熱物自信を発熱させる方式である。最高温度は2200℃ほどで、スチール製品の焼入れ、金属の溶解、半田付け、焼き嵌め、接着、金属鍛造、加熱整形、結晶成長などの様々な用途に応用されている。
A.赤外線加熱 原理:加熱対象物に照射された赤外線光エネルギーは、反射・吸収・透過に分かれ、吸収された光エネルギーは原子・分子を振動させて摩擦熱が発生する。 最大到達温度:700～900℃ 応用例:ガラスや金属の成形のために数秒で高温加熱処理を行う。 難しい形状をしたプラスチックのバリ取りを行う。 熱可塑性プラスチックの成形前や金型にプレ加熱を行う。
A.誘導加熱 →電磁誘導後ほど原理を利用して電流を流して発熱させる。 銅線に交流電流を流すと周囲に磁力線が発生し、その付近に電気を流す物質をおくとその影響を受け、渦電流が発生する。 金属に電気が流れるとジュール熱が発生し、自己発熱する。 2,000℃ほどまで加熱できるものものある。 溶接や焼きばめなどに用いられている。
A.高温加熱時の発生ガスパッチ計測試験。 最大到達温度は950℃ バイオマス燃料を充鎮した石英ボートを反応菅に設置して高純度空気を供給。→反応管温度を昇温プログラムにしたがって段階的に 950°Cまで上げる。→所定の温度における反応管吐出ガスをテ ドラバッグに全量サンプリングし、採取したテド ラバッグ中の水素、メタン等の低級炭化水素、二酸 化炭素、一酸化炭素をガスクロマトグラフ法で定量分析する。
A.真空加熱 真空で加熱することで乾燥や不純物の除去に用いられる。最も高いものでは2300度ほどになる。セラミック材の焼成、焼結などに用いられる。
A.セラミックスを製造する際、第一工程で原料素地から水分や成形時に必要なバインダーなどを除去します。第二工程で温度を上げることで、原料粒子同士が結合し、さらに収縮します。ここでの昇温速度や最高温度、保持時間によって、製品の大きさや気孔率、耐熱性や強度などの特性が決まります。第三工程では製品を冷却する。 高周波誘導加熱用カーボン成形断熱材を使用している為、断熱材の中に配置する、加熱対象物のみ効率良く誘導加熱を行うことが可能です。 超高温加熱器は高周波誘導加熱のメリットである、応答性や安定性をいかし、目標温度に対して短時間で3000℃域の超高温加熱が可能です。最高到達温度は3500度である。 これによって新素材、高融点材料の融解実験や合金作成などに使われている。
A.高周波誘導加熱。 原理～交流電源に接続されたコイルの中に金属棒を挿入すると、コイルと金属棒は離れているにもかかわらず金属棒自身が発熱していく(非接触で自己発熱)。これが誘導加熱であり、交流電流によって被加熱物の表面付近に高密度のうず電流が発生し、そのジュール熱で被加熱物の表面が発熱する。いわゆる磁気による現象である。 この際、るつぼはカーボン式でなければならず、MAXは3000度である。 ホットゾーンはカーボン成形断熱材を用いる。 具体例は電子レンジの仕組みであり、非接触で加熱できる。
A.島田理化工業における高温加熱技術のなかで、トンネル型加熱コイルがある。これは加熱対象を全体的に加熱する。コイルで磁界が発生すると渦電流が流れることを利用して加熱を行う。およそ400度までの加熱が可能で、半田付けや合板圧設などに用いられる。
A.電磁誘導加熱(IH) 加熱制御性、対環境性能が圧倒的に優れており普及が進んできている。 IHの原理は電磁誘導の原理を利用して電流を流し、発熱させること。 現在は調理器具、溶解、溶接などに利用されている。 鍋などの最大温度は約300℃である
A.私は高周波誘導加熱について学んだ。 高周波誘導加熱とは 金属を非接触で自己発熱させる方式である。つまり、容器から不純物が混入せず、純度の高い物質をつくることができる加熱方法である。 主に、ろう付・溶解・焼入れ・焼鈍・焼嵌など熱を必要とする工業プロセスに利用されている。 高周波誘導加熱の原理としては、交流電源に接続されたコイルの中に金属棒を挿入すると、コイルと金属棒は離れているにもかかわらず金属棒自身が発熱していく(非接触で自己発熱)。これが誘導加熱である。要するにコイルに高周波電流を流し磁界を発生させ、その中に加熱する金属を置くと、その金属内にコイルに流した電流の向きと逆向きの渦電流が発生するのである。 加熱する金属の抵抗(R)と流れた渦電流(I)、どれだけの時間(t)流れたかによって、 ジュール熱(Q)=〔渦電流(I)2乗〕×金属の抵抗(R)×時間(t)というジュール熱が発生する。 そのジュール熱で被加熱物の表面が発熱するのである。 この方式は被加熱物に電流を流す直接加熱方式であり、被加熱物が導電体（金属、カーボン等）であることが条件になる。 絶縁体を誘導加熱する場合は、導電性の容器に被加熱物を入れて容器を誘導加熱して熱伝達させる間接加熱方式をとる。 また、最大到達温度は、高融点材料カーボン、タングステン、モリブデンるつぼを用いることにより最高温度2200℃に達することができるというデータがあった。
A.赤外線加熱技術は赤外線から吸収された光エネルギーが原子や分子を振動させることにより摩擦熱を発生させるという原理になっている。約700から900℃まで温度が上がる。ガラスや金属の形成・複雑な形状のプラスチックのバリ取りなどに使用することができる。
A.高温状態で様々なことを行う技術。 高温加熱ロッキングミキサ 最大到達温度400度 医薬品・食品・化学・電子部品材料等の幅広い分野において、大きさや素材の異なった粉体 を均一に分散・混合する装置
A.高周波誘導 この方法は、金属を非接触で自己発熱させるものである。交流電源に接続されたコイルの中に金属棒を挿入すると、コイルと金属棒は離れているにもかかわらず金属棒自身が発熱していく(非接触で自己発熱)。これを誘導加熱という。交流電流によって被加熱物の表面付近に高密度のうず電流が発生し、そのジュール熱で被加熱物の表面が発熱する。 この方式は、被加熱物に電流を流す直接加熱方式であり、被加熱物が導電体（金属、カーボン等）であることが条件になる。 絶縁体を誘導加熱する場合は、導電性の容器に被加熱物を入れて容器を誘導加熱して熱伝達させる間接加熱方式をとる。 加熱効率が高く、最大到達温度は高融点材料カーボン、タングステン、モリブデンるつぼを用いることにより2200 ℃を可能にする。
A.高周波誘導加熱とは金属を非接触で自己発熱させる方式であり、最高到達温度は約3000度である。工業的応用はグラスウールの繊維化やチェーンのインライン熱処理などに用いられる。
A.高周波誘導加熱とは金属を非接触で自己発熱させる方式である。最大到達温度は約800度であり、ろう付け、はんだごて、硬化などの応用例がある。
A.赤外線ランプ加熱によって最高到達温度約1700℃の超高温まで試料を加熱することができる。工業的応用として金属の融解、ガラスの溶解、セラミックスの焼成、半導体材料の熱処理などが挙げられる。
A.高周波誘導加熱 最高温度3000度 コイルに高周波電流を流し磁界を発生させ、その中に加熱する金属を置くと、その金属内にコイルに流した電流の向きと逆向きの渦電流が発生します。 加熱する金属の抵抗(R)と流れた渦電流(I)、どれだけの時間(t)流れたかによって、 ジュール熱(Q)=〔渦電流(I)2乗〕×金属の抵抗(R)×時間(t)というジュール熱が発生する。 はんだ付け、接着、焼入れに使われる
A.高周波誘導誘導加熱 誘導加熱方式 原理:丸棒状の金属(被加熱物)のまわりにコイルを巻いて、この加熱コイルに交流電流を流すと、被加熱物の表面から加熱されて赤くなっていく。これは高周波電流によってできる高周波磁束が被加熱物を貫通して非常に密度の高い電流を誘導し、これによって被加熱物の表面が加熱される。 高周波誘導加熱式電気炉FTV－7000シリーズの場合の最高温度2300℃ 工業的応用はロー付け、無酸化ロー付け
A.「導線に定常電流を流すと一定時間内に発生するジュール熱の量は電流の大きさの二乗と導線の抵抗に比例する」というジュールの法則がある。 これを使って発熱体に短時間で高電流の電気を流すことにより発熱させ、その温度によって加熱する。 ニッケルだと1000℃、カーボンだと2600℃程度まで加熱できる。 様々な工場や研究所での溶解・溶湯保持、熱処理、熱加工、溶接・接着、加熱、乾燥、殺菌、空調、加温・冷却、に使われる。
A.赤外線システムがあり、加熱対象物に照射された赤外線光エネルギーは、反射・吸収・透過に分かれ、吸収された光エネルギーは原子・分子を振動させて摩擦熱が発生するという原理からなっている。最高温度は700～900℃に達する。ペットボトル成形時の加熱、塗料の乾燥などに用いられている。
A.多周波加熱技術というものを選んだ。低周波と高周波を交互に出力して加熱するホットスイッチング方式がある。応用例としては、異形部品の輪郭焼き入れがある。
A.石灰石を焼いて生石灰を作る(石灰窯) 150℃までにもなる。 工業的には鉄鋼用、セメント原料が多い。
A.例えば、高周波誘導加熱という技術で高温加熱を行うことが出来る。その原理は、交流電源に接続されたコイルの中に金属棒を挿入して金属棒自身を発熱させ、その交流電流によって被加熱物の表面付近に高密度のうず電流が発生し、そのジュール熱で被加熱物の表面が発熱するというものである。この方式は被加熱物に電流を流す直接加熱方式であり、被加熱物が導電体であることが条件となる。最大到達温度は約2200℃付近である。ろう付けや焼き入れ、金属鍛造など幅広く応用されている。
A.赤外線を利用した高音加熱技術で最大到達温度は1800度でSiC活性化熱処理などに使われる。
A.高温加熱技術の例として誘導加熱が挙げられる。 原理と方式 導線に交流電流を流すと、その周りに向き、強度の変化する磁力線が発生する。その近くに電気を通す物質（通常は金属）を置くとこの変化する磁力線の影響を受けて、金属の中に渦電流が流れる。金属には通常電気抵抗があるため、金属に電流が流れると、電力=電流2×抵抗 分のジュール熱が発生して、金属が自己発熱する。 最大到達温度は3000℃まで達することができる。 工業的応用 溶接 - 高周波誘導溶接（高周波誘導圧接） 一般家庭製品では電磁調理器（IH調理器）、IH式電気炊飯器などがある。 その他、電気を利用した加熱方式には、遠赤外線加熱、マイクロ波加熱、抵抗加熱、高周波誘電加熱、プラズマ加熱、ヒートポンプ加熱、レーザー加熱等がある。
A.赤外線加熱技術 加熱対象物に照射された赤外線光エネルギーが、反射・吸収・透過に分かれ、吸収された光エネルギーは原子・分子を振動させて摩擦熱が発生する。 900度 ガラスや金属の成形
A. 高温加熱技術の１つに高周波誘導加熱がある。誘導加熱の原理を利用し、これを高周波で行なっている。3300度程度の温度になる。 利点として高速加熱が可能で、加熱効率が高い。外部から熱を加えず加熱可能で作業環境が清潔に保てる。
A.集光加熱: 発光した赤外線輻射光は効率良く反射集光し、高い加熱能力を一段と高める熱容量の少ない発熱ランプと冷却された高反射鏡だけの炉の熱容量は極小で、急速加熱冷却を可能。 最大到達温度:約3200K 工業的応用:光ビームによるはんだ付け 参照: https://www.ushio.co.jp/jp/technology/lightedge/199607/100121.html http://www.caty-yonekura.co.jp/kouonkaneturo.html
A.マイクロ波加熱 マイクロ波を照射して極性をもつ水分子を繋ぐ振動子に直接エネルギーを与え分子を振動・回転させ温度を上げる技術 最高温度：350℃ 具体例：電子レンジ
A.高周波誘導加熱 : 金属を非接触で自己発熱させる方式。 高周波誘導加熱用カーボン成形断熱材を使うことにより、断熱材の中に配置する、加熱対象物のみ効率良く誘導加熱を行うことが可能。約3000℃までの加熱が可能。 工業的応用 : 線材加熱、鋼板加熱、溶解、ろう付け、焼嵌
A.加熱コイルに高周波電流を流すと、磁束が導体を貫通し、高密度の電流が流れる。金属には電気抵抗があるためジュール熱が発生する。そのジュール熱で被加熱物は急速に加熱される。最高温度は800度で、家庭では電磁調理器として利用される。
A.「HIP」は、英語のHot Isostatic Pressingの頭文字をとったもので、材料の加工方法のひとつです。 日本語に訳すと「熱間等方圧加圧法」となり、数100～2000℃の高温と数10～200MPaの等方的な圧力を被処理体に同時に加えて処理するプロセスです。通常はアルゴンなどのガスを圧力媒体として等方的な圧力を加えています。
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<a href='https://edu.yz.yamagata-u.ac.jp/developer/WebClass/WebClassEssayQuestionAnswer.asp?id=5'>
<q><cite>
06-01 高温加熱技術
</q></cite>
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<a href='https://edu.yz.yamagata-u.ac.jp/developer/Asp/Youzan/@Syllabus.asp?nSyllabusID=11133'>
無機工業化学
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<a href='https://edu.yz.yamagata-u.ac.jp/developer/Asp/Youzan/@Lecture.asp?nLectureID=4572'>
ヒトはなぜモノを作らねばならないのか？－幸福な人間社会を目指して－
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第百十三条 大学は、教育研究の成果の普及及び活用の促進に資するため、その教育研究活動の状況を公表するものとする。
