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ウェットプロセスの基礎
電析の電気化学と機構
電析結晶の構造と形態
制御要素
溶液組成、添加剤（光沢剤）、電流波形、攪拌
無電解めっき
反応理論、析出機構
合金めっき
ウェットプロセス1)
他の著作物の一部分を自由に掲載するためには、以下の条件 を満たす必要があります。これらは著作権法の第32条（引用）と 第48条（出所の明示）に基づきます。 1 )
著者名. 書名. 版表示, 出版地, 出版者, 出版年, 総ページ数, （シリーズ名, シリーズ番号）, ISBN.
1.著者名
2.書名
3.版表示, 出版地, 出版者, 出版年, 総ページ数,
版表示は2版以降の場合に記述し、初版では省略します。
出版年は西暦で記述します。
ページ数の後に「p.」を付加して、総ページ数であることを示します。
4.（シリーズ名, シリーズ番号）, ISBN.
シリーズ名・シリーズ番号の「（日本の＜現代＞，第9巻）」とISBNの
「ISBN4-7571-4100-9」は任意記述項目ですので、省略可能です。
<ul>
<!-- 書評 書評 書評 3.2. ウェットプロセスの基礎 書評 書評 書評 -->
<li>
<a target="_blank" href="https://edu.yz.yamagata-u.ac.jp/developer/Asp/Youzan/@BookReview.asp?nBookReviewID=782"> 3.2. ウェットプロセスの基礎 </a>
<br/> 表面技術協会.
<cite> <a href="https://edu.yz.yamagata-u.ac.jp/developer/Asp/Youzan/@BookRequest.asp?nBookRequestID=43"> 表面処理工学 基礎と応用 </a> </cite>.
日刊工業新聞社, （ <a href="https://edu.yz.yamagata-u.ac.jp/developer/Asp/Youzan/@BookReview.asp?nBookReviewID=782"> 参照 2009-3-26 </a> ） .
</li>
<!-- 書評 書評 書評 3.2. ウェットプロセスの基礎 書評 書評 書評 -->
</ul>
<%nExtID=782:szRefType="book":szRefHeadLine="表面技術協会,表面処理工学 基礎と応用,日刊工業新聞社,3.2. ウェットプロセスの基礎 (2000-2-28)"%>
<!-- #include virtual ="/developer/Include/ref_num.inc" -->
