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ドライプロセス
ドライプロセスの基礎
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ドライプロセスの特徴
ドライプロセスの種類と発展
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表面処理工学 基礎と応用（目次）1)
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<ul>
<!-- 書評 書評 書評 4. ドライプロセス, 129 書評 書評 書評 -->
<li>
<a target="_blank" href="https://edu.yz.yamagata-u.ac.jp/developer/Asp/Youzan/@BookReview.asp?nBookReviewID=510"> 4. ドライプロセス, 129 </a>
<br/> 表面技術協会.
<cite> <a href="https://edu.yz.yamagata-u.ac.jp/developer/Asp/Youzan/@BookRequest.asp?nBookRequestID=43"> 表面処理工学 基礎と応用 </a> </cite>.
日刊工業新聞社, （ <a href="https://edu.yz.yamagata-u.ac.jp/developer/Asp/Youzan/@BookReview.asp?nBookReviewID=510"> 参照 2007-4-5 </a> ） .
</li>
<!-- 書評 書評 書評 4. ドライプロセス, 129 書評 書評 書評 -->
</ul>
【関連講義】
無機工業化学,ケイ素製錬、ガラス、セメント、セラミックス、窯業（２００８）1)
無機工業化学,食品、包装、バイオ（２００８）2)
【関連書籍】表面技術入門3)
【測定装置】20130419検討中には、高真空蒸着装置(JFE-4X,日本電子)を用いた4)。
無機工業 > ２００８ > ケイ素製錬、ガラス、セメント、セラミックス、窯業（２００８）,２００８年（Ｈ２０年度）―無機工業化学
立花 和宏,無機工業化学, 講義ノート, (2008).
無機工業 > ２００８ > 食品、包装、バイオ（２００８）,２００８年（Ｈ２０年度）―無機工業化学
立花 和宏,無機工業化学, 講義ノート, (2009).
高真空蒸着装置
,JFE-4X,,(日本電子,).(1) 無機工業 > ２００８ > ケイ素製錬、ガラス、セメント、セラミックス、窯業（２００８）,２００８年（Ｈ２０年度）―無機工業化学<%nExtID=510:szRefType="book":szRefHeadLine="表面技術協会,表面処理工学 基礎と応用,日刊工業新聞社,4. ドライプロセス, 129(2000)"%>
立花 和宏,無機工業化学, 講義ノート, (2008).
(2) 無機工業 > ２００８ > 食品、包装、バイオ（２００８）,２００８年（Ｈ２０年度）―無機工業化学
立花 和宏,無機工業化学, 講義ノート, (2009).
(3) > 表面技術入門
田中和明, 図解入門 よくわかる最新金属の基本と仕組み, 秀和システム, , (2007).
(4) 高真空蒸着装置
,JFE-4X,,(日本電子,).
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