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4. ドライプロセス, 129

表面技術協会. 表面処理工学 基礎と応用 . 日刊工業新聞社,.

参照元

講義ノート


出典・引用元


引用・概要・要約・抄訳

ドライプロセス

ドライプロセスの基礎
スパッタリング
ドライプロセスの特徴
ドライプロセスの種類と発展
物理蒸着法PVD
化学蒸着CVD
溶融成膜法
ドライプロセス表面改質法
ドライプロセス表面加工
ドライプロセスの工程と制御

表面処理工学 基礎応用目次1)

(1 > 表面処理工学 基礎と応用(目次)
表面技術協会, 表面処理工学 基礎と応用, 日刊工業新聞社, , (2000).

書評・注釈・コメント

関連講義
無機工業化学,ケイ素製錬ガラスセメントセラミクス窯業20081)
無機工業化学,食品包装バイオ20082)

関連書籍表面技術入門3)

測定装置20130419検討中には高真空蒸着装置(JFE-4X,日本電子)用いた4)

無機工業 > 2008 > ケイ素製錬、ガラス、セメント、セラミックス、窯業(2008),2008年(H20年度)―無機工業化学
立花 和宏,無機工業化学, 講義ノート, (2008).

無機工業 > 2008 > 食品、包装、バイオ(2008),2008年(H20年度)―無機工業化学
立花 和宏,無機工業化学, 講義ノート, (2009).

高真空蒸着装置
,JFE-4X,,(日本電子,).

(1無機工業 > 2008 > ケイ素製錬、ガラス、セメント、セラミックス、窯業(2008),2008年(H20年度)―無機工業化学
立花 和宏,無機工業化学, 講義ノート, (2008).
(2無機工業 > 2008 > 食品、包装、バイオ(2008),2008年(H20年度)―無機工業化学
立花 和宏,無機工業化学, 講義ノート, (2009).
(3 > 表面技術入門
田中和明, 図解入門 よくわかる最新金属の基本と仕組み, 秀和システム, , (2007).
(4高真空蒸着装置
,JFE-4X,,(日本電子,).

科学技術振興機構. 参考文献の役割と書き方. 科学技術情報プラットフォーム. https://jipsti.jst.go.jp/sist/pdf/SIST_booklet2011.pdf, (参照).

著者名. 書名. 版表示, 出版地, 出版者, 出版年, 総ページ数, (シリーズ名, シリーズ番号), ISBN.


1.著者名
2.書名
3.版表示, 出版地, 出版者, 出版年, 総ページ数,
版表示は2版以降の場合に記述し、初版では省略します。
出版年は西暦で記述します。
ページ数の後に「p.」を付加して、総ページ数であることを示します。
4.(シリーズ名, シリーズ番号), ISBN.
シリーズ名・シリーズ番号の「(日本の<現代>,第9巻)」とISBNの 「ISBN4-7571-4100-9」は任意記述項目ですので、省略可能です。


<li> <a target="_blank" href="https://edu.yz.yamagata-u.ac.jp/developer/Asp/Youzan/@BookReview.asp?nBookReviewID=510"> 4. ドライプロセス, 129 </a> <br/> 表面技術協会. <cite> <a href="https://edu.yz.yamagata-u.ac.jp/developer/Asp/Youzan/@BookRequest.asp?nBookRequestID=43"> 表面処理工学 基礎と応用 </a> </cite>. 日刊工業新聞社, ( <a href="https://edu.yz.yamagata-u.ac.jp/developer/Asp/Youzan/@BookReview.asp?nBookReviewID=510"> 参照 2007-4-5 </a> ) . </li>


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