HOME 教育状況公表 令和3年11月27日

CVD

1.

ケミカルベーパーデポジション化学蒸着こと原料ガス種々の方法で活性化して基材表面目的する析出作るドライプロセス1)活性化の方法として熱CVDプラズマCVDCVDなどがあります表面コーティング作成に使われます物理蒸着法はPVDいいます
(1ドライプロセス
表面技術協会, 表面処理工学 基礎と応用, 日刊工業新聞社, (2000).