1.編集1-3863-2ナレッジケミカル・ベーパー・デポジションの略。化学蒸着のこと。原料ガスを種々の方法で活性化して基材表面に目的とする析出物を作るドライプロセスです1)。活性化の方法として熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、光ＣＶＤなどがあります。表面のコーティングや膜の作成に使われます。物理蒸着法はＰＶＤといいます。(1) ドライプロセス表面技術協会, 表面処理工学 基礎と応用, 日刊工業新聞社, (2000).#🗒️👨🏫化学#🗒️👨🏫蒸着#🗒️👨🏫ガス#🗒️👨🏫表面#🗒️👨🏫析出#🗒️👨🏫ドライプロセス#🗒️👨🏫熱ＣＶＤ#🗒️👨🏫プラズマＣＶＤ#🗒️👨🏫表面#🗒️👨🏫コーティング#🗒️👨🏫膜#🗒️👨🏫ＰＶＤ#🗒️👨🏫原料#🗒️👨🏫光
1.編集1-3863-2ナレッジケミカル・ベーパー・デポジションの略。化学蒸着のこと。原料ガスを種々の方法で活性化して基材表面に目的とする析出物を作るドライプロセスです1)。活性化の方法として熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、光ＣＶＤなどがあります。表面のコーティングや膜の作成に使われます。物理蒸着法はＰＶＤといいます。(1) ドライプロセス表面技術協会, 表面処理工学 基礎と応用, 日刊工業新聞社, (2000).#🗒️👨🏫化学#🗒️👨🏫蒸着#🗒️👨🏫ガス#🗒️👨🏫表面#🗒️👨🏫析出#🗒️👨🏫ドライプロセス#🗒️👨🏫熱ＣＶＤ#🗒️👨🏫プラズマＣＶＤ#🗒️👨🏫表面#🗒️👨🏫コーティング#🗒️👨🏫膜#🗒️👨🏫ＰＶＤ#🗒️👨🏫原料#🗒️👨🏫光
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