イオンプレーティング

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イオンプレーティングはドライプロセスの中で真空蒸着とプラズマの複合技術です。真空蒸着装置内にガスを導入して、プラズマを発生させ、蒸着粒子を活性化して蒸着します。ガスプラズマとして窒素、アセチレンなどの反応ガスプラズマを使うと、窒化物、炭化物などの化合物膜を簡単に作成できます。