ドライプロセス

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ドライプロセスは真空技術を使うプロセスが多い。デポジションとしては真空蒸着（ＰＶＤ）、イオンプレーティング、スパッタリング、ＣＶＤ（化学蒸着）、溶融めっき、溶射、ライニングなどがあり、表面改質として熱処理、拡散浸透法、イオン窒化、イオン浸炭、イオン注入、プラズマ処理、レーザー処理、樹脂含浸、エッチング、などがあります。産業では溶液を使うウェットプロセスと違って廃液がないため環境保全に有利といわれています¹⁾。

(1) 表面処理工学　基礎と応用
表面技術協会, 日刊工業新聞社, (2000/02/28).