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高真空蒸着装置

取扱 正 関口理希
責任者 副 立花和宏
項目内容
製品ＩＤ41
場所・区画 〔848〕3-３３０８：Ｃ１講座（西区画）
キャビネット 〔 0 〕

3-３３０８：Ｃ１講座（西区画）3-3308

高真空蒸着装置

説明書あり

EE-AHE：試料加熱装置

JEOL LTD./日本電子

真空蒸着

真空ホース劣化：
酒田理科マキさんへ

ドライプロセス1)

【関連講義】卒業研究（Ｃ１-電気化学２００４～）,装置と器具2)
【関連書籍】ドライプロセス3)


実験方法 > 装置と器具,実験方法（Ｃ１）
仁科 辰夫,卒業研究（Ｃ１-電気化学, 講義ノート, (2007).
(1)  > ドライプロセス
表面技術協会, 表面処理工学　基礎と応用, 日刊工業新聞社, , (2000).
(2) 実験方法 > 装置と器具,実験方法（Ｃ１）
仁科 辰夫,卒業研究（Ｃ１-電気化学, 講義ノート, (2007).
(3)  > ドライプロセス
表面技術協会, 表面処理工学　基礎と応用, 日刊工業新聞社, , (2000).

この 装置 高真空蒸着装置が設置されている 区画

山形大学 データベースアメニティ研究所
〒992-8510 山形県米沢市城南4丁目3-16 ３号館（物質化学工学科棟） 3-3301
准教授 伊藤智博
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